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難分解性ガスCF4を99%以上分解・燃焼式排ガス処理装置 ガーディアンシリーズ
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▼概要
▼概要
燃焼式のパイオニア(国内)で十分な実績があり、東京ガス(株)研究所の燃焼技術を応用(特許取得済)しています。半導体300mmプロセス、液晶第8世代プロセスで使われる各種排ガスを除害可能で、酸素燃焼方式では難分解性CF4を含む(全てのPFC、又、空気燃焼方式ではCF4以外のSF6，C2F6，NF3などのPFCをほぼ完全かつ効率的に分解します。さらにPFCとSiH4系ガスの同時処理が可能です。（※本製品は東京ガス（株）、東京ガスケミカル（株）、小池酸素工業（株）３社の共同開発によるものです。）
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▼詳細説明
ガーデイアンシリーズ排ガス処理の特長
１．高温領域を持続させるバーナーで難分解性ガスであるCF4を99%以上分解できます。
２．効率の良い燃焼器を使用し低ランニングコストと高メンテ性を実現します。
３．水使用量が少なく，粉体処理も考慮した効率の良いスクラバーを使用してます。
４．シリカ粉(SiO2)対策としてスクレイパー装備、シンプル構造をとっております。
５．腐食対策として部位に応じた耐食コーティングを実施してます。
６．安全・無事故・高信頼性のため、監視機能の向上，操作性の簡素化を目指しております。
300mmプロセス・マルチチャンバー装置への対応について
PFCとSiH4系ガスの同時処理が可能なため、PFCだけでなくCVD・エッチャーからのSiH4、TEOS、SiF4、Cl2、PH3、N2Oなどを含むガスに対応でき、300mmプロセス・マルチチャンバー装置の排ガス処理に対応できます。
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