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＜東京ガスケミカル（株）からのメッセージ＞
1世紀を超える都市ガス事業の中で、東京ガスが培ってきた化学分野を結集して誕生したのが東京ガスケミカルです。半導体製造で使用されるPFCの排ガス処理装置をはじめ、CVDプロセスの製造装置にも果敢にチャレンジし、多様な幅の広いソリューションを提供しております。
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難分解性ガスCF4を99%以上分解・燃焼式排ガス処理装置 ガーディアンシリーズ
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▼概要
燃焼式のパイオニア(国内)で十分な実績があり、東京ガス(株)研究所の燃焼技術を応用(特許取得済)しています。半導体300mmプロセス、液晶第8世代プロセスで使われる各種排ガスを除害可能で、酸素燃焼方式では難分解性CF4を含む(全てのPFC、又、空気燃焼方式ではCF4以外のSF6，C2F6，NF3などのPFCをほぼ完全かつ効率的に分解します。さらにPFCとSiH4系ガスの同時処理が可能です。（※本製品は東京ガス（株）、東京ガスケミカル（株）、小池酸素工業（株）３社の共同開発によるものです。）
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