セミコンダクタポータル


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SPI優れもの紹介

「SPI 優れもの紹介」ではセミコンダクタポータル会員の皆様に毎月お送りしている
「SPI 製品情報」の最新号とバックナンバーを掲載しています。

SPI 製品情報とは・・

「e-カタログ」に掲載された製品の中からセミコンダクタポータル会員の皆様にお役に立つ優れもの製品や、サービスをご紹介させて頂く月刊メールマガジンです。

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今月の優れもの ( VOL.7 2003年 2月)
		TELFORMULA(R)　熱処理成膜装置
		( 東京エレクトロン（株） )
		TELFORMULAは100nm世代以降のデバイス生産に最適な革新的熱処理成膜装置です。特長であるリーズナブルなCoOと1時間のサイクルタイムとの両立は、これからの半導体製造に要求される経営効率向上に貢献します。さらに、プロセス性能を飛躍的に向上させるばかりでなく、高誘電率膜などの先進的材料にも対応する唯一の装置です。

		Ｔｒｉａｓ(R)　SPA　プラズマ処理装置
		( 東京エレクトロン（株） )
		Trias SPAはSPA（Slot Plane Antenna）を用いることにより、低電子温度・高プラズマ密度を両立させた新しいダメージフリーなプラズマ処理のNitridation装置です。 FTPS/WVGによるベース酸化膜形成と組み合わせることにより低温で0.1～0.07μm世代のゲート絶縁膜窒化プロセスを実現します。

		最新分析情報（Ｓｉ基板中のCu汚染分析方法）
		( （株）セミコンダクタポータル )
		Ｃｕは室温中でもＳｉ基板内で熱的挙動を示すことで過去古くから恐れられていた。今回、Ｓｉ基板中のＣｕの挙動を把握するための各種分析ついて紹介いたします。


バックナンバー

	VOL.16 (2004年7月)	：	「システムLSIの設計強化を実現する試作・評価環境を目指して」（SPIサマリーレポートVol.3．No1）
	VOL.15 (2004年5月)	：	フォトリソ用ワイヤレス温度計測ウエハ（INtegrated　Wafer) / 携帯型データ収集モジュールシステム（ISIS ５） / ピーク温度インディケータ付ウェハ(APTI)
	VOL.14 (2004年1月)	：	歪シリコン技術の展望と動向(SPIサマリーレポートVol.2　No.2）
	VOL.13 (2003年10月)	：	中国半導体産業のダイナミズム（SPIサマリーレポートVol.1　No.1） / 半導体製造装置　中古市場拡大へのソリユーション（SPIサマリーレポートVol.2　No.1） / エンジニア用評価用サンプルの組立、クイックビルド
	VOL.12 (2003年9月)	：	ＬＳＩ開発受託サービス / 半導体業界へのご紹介サービス
	VOL.11 (2003年7月)	：	最新分析情報
	VOL.10 (2003年5月)	：	LASAIRII-110　エアーパーテイクルカウンター
	VOL.9 (2003年4月)	：	故障解析/物理化学分析サービス【TNAレパートリ追加】
	VOL.8 (2003年3月)	：	故障解析/物理化学分析サービス【ノアレパートリ追加】
	VOL.6 (2003年1月)	：	最新分析情報：（ＡＰＩＭＳとＧＣＭＳ）
	VOL.5 (2002年11月)	：	ECO－SHOCK「ドライポンプ省電力化アタッチメント」 / 故障解析/物理化学分析サービス【UBE科学分析センター参加】 / 最新分析情報（Ｈｉｇｈ-ｋ膜中の重金属分析）
	VOL.4 (2002年10月)	：	エネルギー分散型微小部蛍光Ｘ線分析装置μEDX-1200/1300/1400 / CMP用スラリー評価装置　 SlurryChek・SlurryAlert / 故障解析向けウエハ薄膜化装置　6EJ nOvation
	VOL.3 (2002年9月)	：	マイクロフォーカスＸ線ＣＴシステム / 超微量金属除去システム / 酸還王「超機能水製造装置」
	VOL.2 (2002年8月)	：	ハンディレーザーパーティクルカウンタ　ジオアルファー / 故障解析・物理化学分析サービス【NECアメニプランテクス参加】 / ＳＰＩ分析・解析コンサルティング
	VOL.1 (2002年7月)	：	ワイヤレス式ウエハ表面温度測定システム / 分子汚染リアルタイムモニター　AiM-１００

九州半導体・ＦＰＤ企業データベース

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